| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2020년 가을 (11/18 ~ 11/20, 휘닉스 제주 섭지코지) |
| 권호 |
26권 1호 |
| 발표분야 |
A. 전자/반도체 재료 분과 |
| 제목 |
중성빔을 이용한 블록공중합체 패턴의 저손상 식각에 관한 연구 |
| 초록 |
최근 기존의 포토리소그래피를 대체하기 위한 패터닝 방법으로 extreme ultraviolet lithography (EUVL) 등 많은 연구가 이루어지고 있다. 이 중 블록공중합체 (block co-polymer; BCP)를 이용한 direct self-assembly (DSA) 기술 또한 활발한 연구가 진행 중이다. 본 연구에서는 이러한 블록공중합체의 물질 중 하나인 polystyrene-block-polydimethylsiloxane (PS-b-PDMS)과 하드마스크 물질로 비정질 탄소층 (amorphous carbon layer; ACL)을 하부층으로 삽입하여 효과적인 pattern transfer 공정에 대해 연구하였다. 이온빔과 중성빔을 이용한 건식 식각 방법으로 낮은 종횡비를 가지는 한계점을 극복하는 동시에 저손상 효과로 높은 Flory-Huggins interaction parameter (χ)를 가지는 블록공중합체의 손상을 최소화하여 이를 이용한 하부층 식각 시의 etch profile을 향상시킬 수 있는 방법을 제시하였다. |
| 저자 |
장원준, 김교운, 오지수, 김희주, 홍종우, 염근영
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| 소속 |
성균관대 |
| 키워드 |
plasma etch; neutral beam; low damage; PS-<EM>b</EM>-PDMS; amorphous carbon layer
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