화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2009년 봄 (04/09 ~ 04/10, 대전컨벤션센터)
권호 34권 1호
발표분야 고분자 합성
제목 UV curable 기능성 고분자 합성 및 Negative Photo resist로의 응용(1. Quencher effects)
초록 본 논문은 광경화를 극대화시킨 신규 고분자를 합성하고 이를 PR에 적용한 결과로 총 4가지의 테마(1. Quencher effect, 2. PI effect, 3. Multi functional monomer effect, 4. Binder effect)로 진행되었으며, 금번은 Quencher effect에 대해 고찰하였다. 고분자는 Radical polymerization을 통해 Dicyclopentyl methacrylate / Methacrylate / Methacrylic acid의 ter-polymer를 합성하고, glycidyl methacrylate와의 고분자 반응을 통해 Main chain에 이중결합이 도입된 easy UV curable 신규 고분자를 합성하였다. 합성된 신규 고분자는 PR의 Main binder로 이용되었으며, 총 4종의 광경화 type의 negative 용 photo resist를 제조하여 모든 조성물을 고정한 상태에서 첨가제인 Quencher의 분자량, bulkness, PR 내 분포 경향에 따른 litho performance 변화를 추적하였다. Quencher의 분포는 직접적으로 분자량(b.p)에 의존하며, 분포 위치에 따라 PR의 profile 및 resolution에 영향을 주는 것을 확인 할 수 있었다.
저자 김난수1, 남병욱1, 이무영2, 한석2
소속 1한국기술교육대, 2롬엔드하스 전자재료 코리아(유)
키워드 Negative; photo resist
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