| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2017년 봄 (05/10 ~ 05/12, 광주 김대중컨벤센센터(Kimdaejung Convention Center)) |
| 권호 | 21권 1호 |
| 발표분야 | 전기화학 |
| 제목 | 3가 크로뮴 형성 펄스가 도입된 크로뮴 도금 공정에 관한 연구 |
| 초록 | 크로뮴은 내식성이 뛰어나며 내마모성 및 우수한 광택을 갖고 있어 공업 자재 및 자동차 내장재, 가전 기기 등에 쓰이는 다양한 금속 재료의 표면을 도금하는데 있어 광범위하게 적용된다. 일반적인 크로뮴 도금 공정의 과정은 6가 크로뮴 이온을 전기화학적으로 크로뮴 금속으로 환원시키는 방식으로 진행되며, 이때 6가 크로뮴 이온이 3가 크로뮴 이온으로 먼저 환원되고 그 이후에 3가 크로뮴 이온이 환원되어 최종적인 크로뮴 금속의 형태로 증착된다. 본 연구에서는 6가 크로뮴 전기 도금 공정에 3가 크로뮴 이온을 형성하는 펄스를 도입하여 이에 따른 크로뮴 도금 층의 물성을 비교하였다. Linear Sweep Voltammetry (LSV)를 통하여 3가 크로뮴 이온을 형성시키는 전류 밀도 범위를 설정하였으며, 크로뮴 금속과 3가 크로뮴 이온을 형성하는 전류를 교대로 인가하는 pulse electro-plating 방법으로 실험을 진행하였다. OM 및 SEM 분석을 통해 크로뮴 도금 층의 물성을 비교 하였고, XRF를 통해 도금 두께를 측정하였다. 또한 XPS와 Nano indenter를 이용하여 크로뮴 도금 막의 정성 분석 및 경도 측정을 하였다. |
| 저자 | 남대현, 임동욱, 최영일, 김상득, 손수민, 백성현 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | Chromium electroplating; Pulse electroplating; Trivalent chromium |
