| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2010년 가을 (11/11 ~ 11/12, 무주리조트) |
| 권호 | 16권 2호 |
| 발표분야 | B. Nano materials and processing Technology(나노소재기술) |
| 제목 | 전착법을 이용한 NiO 박막 성장에서의 pH의 영향 |
| 초록 | NiO는 상온에서 넓은 밴드갭(3.54 eV)을 가지는 p-type 물질로서, 저항변화 메모리(resistive random-access memory), 전기화학 커패시터(electrochemical capacitor), 전기변색성 소자(electrochromic devices), 화학센서(chemical sensors), LED(light-emitting diodes) 등으로 적용 가능성이 큰 소재로 주목받고 있다. 이러한 NiO를 성장시키는 방법으로 전착법(electrochemical deposition), DC 마그네트론 증착법(dc magnetron deposition), 열산화법(thermal oxidation), CBD(chemical bath deposition), 열기상증착법(thermal evaporation), 분무열분해법(spray pyrolysis), 졸갤법(sol-gel), 그리고 PLD(pulsed laser deposition) 등의 다양한 방법이 사용되고 있으며, 그 중에서 전착법은 저렴한 비용과 낮은 온도에서 NiO 박막을 성장시키는데 유리한 이점이 있다. 이에 본 연구에서는 전착법과 후열처리(post-annealing)의 두 과정을 통해 NiO 박막을 성장시켰으며, 이 때 전해질의 pH가 NiO 박막의 성장에 어떠한 영향을 끼치는지 알아보고자 한다. NiO 박막을 성장시키기 위해 전도성 기판과 Pt 박막을 각각 작동전극과 상대전극으로 사용하였다. NiCl2 5 mM, HMTA(C6H12N4) 10 mM이 용해된 다른 pH(8, 9, 10, 11) 조건의 전해질 내에서 80℃에서 30분 동안 -1.0 V의 포텐셜을 인가하였으며, 그 후 300℃에서 1시간 동안 Air 분위기에서 열처리하였다. 성장된 NiO 박막의 결정구조와 우선 배향성을 알아보기 위해 XRD를 측정하였고, 박막의 두께 측정과 표면의 형상을 관찰하기 위해 SEM을 이용하였다. 그리고 광학적 특성을 알아보기 위해 PL측정을 하였다. |
| 저자 | 김호범, 도종칠, 김형훈, 문진영, 이호성 |
| 소속 | 경북대 |
| 키워드 | 전착법; NiO; pH |
