| 초록 |
기체분리막 연구에 있어 투과도와 선택도의 성능 향상은 매우 중요하다. 그러나 투과도가 높을수록 선택도가 줄어들고, 또한 선택도가 높을수록 투과도가 줄어드는 "Trade Off"현상으로 인하여 이 두 가지 특성을 동시에 만족시키는 소재를 개발하는데는 한계가 있다. 그러므로 우수한 성능의 기체분리막을 개발하기 위해 표면층과 하부지지층의 구조를 달리하는 막을 제조하는데 이루렀으며 이것을 이중막(Composite Membrane)이나 비대칭막(Asymmetric Membrane)이라 하고, 현재 많은 연구가 이루어지고 있다. 이에, 전기적 방전상태에서 막 표면을 개질 하거나, 표면에 새로운 고분자를 중합하는 저온 플라즈마 법이 응용되고 있다. 플라즈마 처리 공정은 비활성 가스나 활성 가스에 의해 non-polymerizable한 표면개질 효과를 얻을 수 있고 플라즈마 중합에 비해 조작이 간단하고 일반적으로 비싼 모노머가 필요하지 않기 때문에 경제적인 장점이 있으므로 이 분야에서의 많은 연구가 이루어져야 한다. 그러므로 본 연구에서는 폴리스티렌막(Polystyrene Membrane, PS)을 활성가스인 NH3로 플라즈마 처리한후 CO2가스의 투과도와 CO2/N2혼합가스의 선택도를 관찰하였다. |
