| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2014년 가을 (11/27 ~ 11/28, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 20권 2호 |
| 발표분야 | B. 나노 재료(Nanomaterials) |
| 제목 | Sol-Gel shrinkage 현상을 이용한 나노임프린트 리소그래피의 나노패턴 수축 현상 및 응용 |
| 초록 | 공정비용이 낮으면서도 손쉽게 대면적 패터닝을 할 수 있는 나노임프린트 리소그래피 공정은 기존 포토리소그래피를 대체하는 반도체 제조공정으로 각광받고 있으며 그에 따른 나노임프린트용 공정 및 레진 개발이 활발히 이루어지고 있다. 그러나 기존 나노임프린트 리소그래피의 레진으로는 본래의 Master Stamp와 똑같은 크기의 패턴만 제작할 수 있었으며 그 후 추가적인 공정을 통해서 기존 패턴과는 다른 형태, 다른 선폭의 패턴을 제작할 수 있었다. 본 연구에서는 Tetrabutylorthotitanate를 기반으로 하는 ethanol 기반의 TiO2 sol을 레진으로 사용하여, 나노임프린트 공정 과정에서 gelation을 통해 나노 패턴들의 열수축이 일어남을 확인하였고, 이로 인해 한 번의 공정만으로도 선폭이 줄어든 나노 패터닝을 할 수 있음을 확인하였다. 또한 이를 PS-b-PMMA Block Copolymer 분화 기술과 결합시켜 대면적의 수십 나노 급 선폭의 라인 패턴을 제작하였다. 차후 본 연구를 통해 sub 50 nm급 Master Stamp 제조 또는 nanopattern을 이용한 Color filter, Wire Grid Polarizer 등 다양한 분야로 응용이 가능할 것으로 기대 된다. |
| 저자 | 허주혁, 조중연, 김재현, 박상준, 이헌 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | Sol-Gel shrinkage; Nanoimprint Lithography; Nanopatterning |
