| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2006년 가을 (11/10 ~ 11/11, 경희대학교(수원캠퍼스)) |
| 권호 | 10권 2호 |
| 발표분야 | 고분자 |
| 제목 | 계면활성제를 이용한 초임계 이산화탄소 내 패턴세정 |
| 초록 | 반도체 공정에서 패턴 웨이퍼의 현상과 세정에 수반되는 건조과정에서 발생하는 패턴 붕괴 및 뒤틀리는 현상은 패턴이 고 종횡비가 될수록 현저해진다. 이 현상은 액체와 기체 계면에서 발생하는 압력에 의한 모세관 힘에 의해 발생하므로, 기존의 습식공정을 대체하여 표면장력이 극히 낮은 용매를 이용하면 패턴 붕괴를 방지할 수 있다. 이산화탄소는 비교적 낮은 임계온도와 임계압력을 가지고 있어 쉽게 초임계 상태에 도달할 수 있으며 초임계 상태가 되면 낮은 점도와 Zero에 가까운 표면장력을 가지고 있어 미세패턴을 가진 복잡한 구조의 세정에 효과적이다. 본 연구에서는 이산화탄소용 계면활성제를 이용하여 초임계 건조하여 패턴 붕괴와 어떠한 손상도 없는 130-140nm의 미세 패턴을 얻을 수 있었다. |
| 저자 | 이민영, 도경민, 박은주, 임권택 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | 패턴세정; 초임계이산화탄소; 계면활성제 |
