| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2015년 봄 (05/14 ~ 05/15, 구미코) |
| 권호 | 21권 1호 |
| 발표분야 | G. 나노/박막 재료 |
| 제목 | 전기 화학 공정을 이용한 Cu2O 박막 성장 전 UVO 처리에 따른 광 전기화학 특성 개선 연구 |
| 초록 | Fluorine doped tinoxide (FTO) 기판에 UVO 표면 전처리 후 전기 화학 공정을 이용하여 증착된 Cu2O 박막의 성장 및 광 전극 특성을 연구하였다. 다양한 UVO 표면 전처리 시간에 따른 Cu2O 박막의 형태학적, 구조적, 광학적, 광 전기화학적 특성을 각각 field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), X-ray diffraction (XRD), UV-visible spectroscopy, 3-electrode potentiostat을 이용하여 측정하였다. 모든 UVO 표면 전처리 시간 조건에서 UVO 처리를 거친 샘플들이 UVO 처리를 하지 않은 샘플보다 높은 광 전류밀도를 나타내는 것을 확인할 수 있었으며, UVO 표면 전처리 시간 2분에서 UVO 표면 처리를 거치지 않은 샘플보다 약 2.5배 가량 높은 광 전류밀도를 나타내었다. |
| 저자 | 이후중, 오희봉, 이상진, 하진욱, 류혁현 |
| 소속 | 인제대 |
| 키워드 | Cu<SUB>2</SUB>O; electrochemical deposition; UVO surface pretreatment |
