| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2011년 가을 (10/06 ~ 10/07, 김대중 컨벤션센터) |
| 권호 | 36권 2호 |
| 발표분야 | 고분자합성-구조제어중합 |
| 제목 | 실란 커플링제(TESPT)에 의한 실리카 입자의 표면개질 반응과 NBR 나노 복합체 응용 |
| 초록 | Abstract 본 연구에서는 실리카 나노 입자의 표면 개질을 위해 실란 커플링제인 Bis-(3-triethoxysilpropyl)tetrasulfide(TESPT)를 사용하여 표면 개질 반응을 수행하였다. 반응온도, 반응시간 및 실리카 표면의 실라놀기(Si-OH)에 대한 TESPT의 몰 비의 변화가 실리카 표면개질 반응에 미치는 영향을 연구하였다. 개질반응 후 Fourier Transform Infrared Spectroscopy(FT-IR), Thermo Gravimetric Analysis(TGA), Elementary Analysis(EA)를 사용하여 표면이 개질된 실리카 입자들의 분석을 수행하였다. TESPT에 의해 표면이 개질된 실리카 나노 입자가 NBR의 물성에 미치는 영향도 연구하였다. |
| 저자 | 류현수, 하기룡, 이영석, 이종철 |
| 소속 | 계명대 |
| 키워드 | Silica; NBR; TESPT |
