| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2004년 가을 (11/05 ~ 11/05, 인하대학교) |
| 권호 | 10권 2호 |
| 발표분야 | 반도체I(실리콘) |
| 제목 | ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구 |
| 초록 | 현재 사용되고 있는 microelectronics circuits가 전기 전류를 이용하듯이 빛을 이용하는 photonic circuits과 같은 광소자를 기반으로 하는 회로는 처리속도가 더 빠르고 microelectronic 회로가 필요한 것보다 더 적은 전력을 소비한다. 이와 같이 전자를 신호로 사용하여 전자부품을 만들듯이, 빛의 신호를 이용하는 극소형 광 부품을 제작하고 전자부품과 집적화를 구현하여 초고속 고효율의 통신, 디스플레이, 센서 등의 응용을 추구하기 위한 방법으로 최근 photonic crystal에 관한 연구가 많이 진행되어오고 있다. 본 연구에서는 구조의 주기적 배열과 특성평가를 위해 SOI(Silicon On Insulator) wafer 위에 circular holes 을 Hexagonal의 형태로 (200nm hole diameter and 536nm pitch) E-beam writing을 이용하여 patterning 하였으며, 상부 Si(80nm depth)은 ECR plasma source 로 pure Cl2 과 Cl2/Ar을 이용하여 etching 해서 vertical 한 side-wall profile 형상을 얻을 수 있었다. OES(Optical Emission Spectroscopy)를 이용한 플라즈마 분석과 FE-SEM(Field Emission Scanning Electron Microscopy)을 이용하여 식각 프로파일을 관찰하였다. |
| 저자 | 문강훈, 신수범, 안진호 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | photonic crystal; ECR; PBG structure |
