| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (05/26 ~ 05/27, 무주리조트) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | 나노 임프린트 리소그라피를 이용한 template 제작 방법에 관한 연구 |
| 초록 | 최근 나노 임프린트 리소그라피(NIL)는 optical waveguide, optical disc, integrated photonic circuit, bio-chip (DNA stretch) 등의 나노 구조물 제작에 그 적용 분야가 확대되고 있다. E-beam lithography, AFM lithography, dip pen lithography, X-ray lithography 등 다른 나노 패터닝 기술과 비교하여, NIL은 적은 비용으로 많은 양의 nano-size의 패턴을 제작할 수 있다는 장점이 있다. NIL를 이용하여 대량 생산을 위해서는 많은 template이 필요한데, 나노 size의 template 제작과정은 매우 어렵고 비싸기 때문에 값싼 template 제작방법에 관한 연구가 현재 활발히 이루어지고 있다. 본 연구에서는 Si wafer 위에 금속막을 입힌 UV-NIL 스탬프인 HMM(Hybrid Mask Mold)을 사용하여 원천적으로 임프린트 resin이 잔류하지 않는 방법인 CNP(combined-nanoimprint-photolithography) 방식을 통해 패턴을 형성하였다. 임프린트 resin인 ZEN monomer와 함께 negative tone의 photoresist를 사용하여 Si 기판과의 에칭 선택비를 향상시켰다. CNP 방법에 의해 형성된 나노 패턴과 식각 프로파일은 FE-SEM으로 관찰하였다. |
| 저자 | 문강훈1, 최방림1, 안진호1, 양기연2, 홍성훈2, 이헌2 |
| 소속 | 1한양대, 2고려대 |
| 키워드 | imprint; template |
