화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2011년 가을 (10/26 ~ 10/28, 송도컨벤시아)
권호 17권 2호, p.1775
발표분야 이동현상
제목 HVPE 법을 이용한 GaN 증착 공정의전산유체역학(CFD)을 통한 분석
초록 MHVPE(Modified Hydride Vapor Phase Epitxy)법은 화합물 반도체 증착 방법으로 결정성, 순도, 성장속도, 공정의 조절 능력 등이 뛰어나서 상업적으로 많이 사용하고 있다. 본 연구에서는 MHVPE 법을 이용하여 양질의 기술의 확립에 앞서 열역학 Data 및 물성치들을 조사하여 CFD 프로그램을 통한 MHVPE 법의 GaN 증착 공정을 전사모사를 통한 해석을 진행 하였다. 이를 통해 실제 실험의 유체 흐름과 온도 분포 및 Chemical reaction을 예측 할수 있었다. 그리고 공정 변수 분석을 통하여 Database를 구축 최적화 된 반응로를 설계 할수 있다. 그리고 전산모사와 실제 실험의 결과를 비교 분석을 통하여 MHVPE 법을 이용한 GaN 증착 공정 기술을 확립 하고자 한다.
본 연구는 2010년도 지식경제부의 재원으로 한국에너지기술평가원(KETEP) 에너지인력양성사업(No. 20104010100580)의 지원을 받았습니다.
저자 이상훈, 박승배, 박진호
소속 영남대
키워드 CFD; GaN; HVPE
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원문파일 초록 보기