| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2009년 가을 (11/05 ~ 11/06, 포항공과대학교) |
| 권호 |
15권 2호 |
| 발표분야 |
H. Advanced Coating Techniques(첨단 코팅 기술) |
| 제목 |
O2 플라즈마 전처리를 통해 플렉시블 기판위에 증착된 Ga-doped ZnO 투명전도막의 특성 |
| 초록 |
폴리머 기판위에서 ICP-RIE 방법을 이용하여 O2 플라즈마 전처리효과에 따른 GZO박막의 전기적, 광학적인 특성을 고찰 하였다. ICP-RIE 방법을 이용하여 폴리머 기판 위에 O2 플라즈마 전처리의 공정 값은 공정압력은 20 mTorr, 파워는 100 W로 하고 변수로는 시간을 60초 ~ 600초로 하였다. O2 플라즈마 전처리한 기판위에 RF Sputtering 방법을 이용하여 4인치의 GZO(ZnO: 95 wt%, Ga2O3: 5 wt%) 타겟을 사용하여 공정압력은 5 mTorr, 파워는 150 W, 박막의 두께는 500 nm의 조건으로 박막을 증착 하였다. PET 기판의 600초의 O2 플라즈마 처리 후 증착한 GZO 박막의 비저항이 6.2×10-3 Ω-cm 이었고, PEN 기판의 120초의 O2 플라즈마 처리 후 증착한 GZO 박막의 비저항이 1.1×10-3 Ω-cm 이었다. 또한 300 nm 이하의 자외선 영역에서는 뛰어난 광 차단 효과를 가지고 있었으며, 가시광선 영역(400 ~ 700 nm)에서 증착 된 시편들이 80% 광 투과율을 나타내었다. (본 연구는 교육과학기술부와 한국산업기술재단의 지역혁신인력양성사업으로 수행된 연구결과임) |
| 저자 |
이석진, 여인환, 오병진, 김재화, 박재환, 임동건
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| 소속 |
충주대 |
| 키워드 |
O2 plasma; ZnO; 플렉시블 기판; 투명전극
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