| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2018년 가을 (11/07 ~ 11/09, 여수 디오션리조트) |
| 권호 |
24권 2호 |
| 발표분야 |
G. 나노/박막 재료 분과 |
| 제목 |
열적 및 화학적 처리를 통한 그래핀 세정 기법 최적화 연구 |
| 초록 |
그래핀은 탄소 원자들이 육각형의 격자를 가지며 2차원 평면을 이루고 있는 구조로 뛰어난 물리적 특성을 가지고 있어 미래의 저전력, 고속, 그리고 소형의 전자소자를 위한 유망한 물질로써 촉망 받고 있다. 그래핀을 합성하는 방법 중 화학기상증착법은 균일도 및 대면적화의 이점이 있고, 특히 성장된 그래핀을 다양한 종류의 기판에 전사할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 하지만, 그래핀을 타 기판에 전사하는 과정에서 PMMA 등과 같은 그래핀 지지층의 사용이 필수적이며, 전사 후 이를 효과적으로 제거하는 것이 큰 이슈이다. 그러한 이유는 그래핀 표면에 남아있는 PMMA 잔여물이 그래핀의 원치 않는 도핑 효과 및 그래핀의 전도도 저하 등에 큰 영향을 주기 때문이다. 본 연구에서는 그래핀 전사 후 PMMA 잔여물을 효과적으로 제거할 수 있는 그래핀 세정 기법 최적화에 관하여 조사하였다. 열처리, 화학처리, 그리고 플라즈마처리 등 다양한 기법과 다양한 조건이 적용되었으며, 세정 조건의 변화에 따른 라만분광 특성 및 전기 전도도 등의 변화를 조사함으로써 그래핀 세정 효과를 관찰하였다. |
| 저자 |
이대언, 강순홍, 김현기, 박준영, 이소현, 박태준, 최민근, 이영민, 이세준, 김득영
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| 소속 |
동국대 |
| 키워드 |
<P>그래핀; 세정; 열처리; 화학처리</P>
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