| 초록 |
투명전도성박막(Transparent conductive thin film)은 낮은 저항(＜10-3Ω‧cm) 및 높은 투과도(＞80%) 특성으로 인하여 터치스크린, 태양전지 및 발광다이오드 등 다양한 광전소자에 응용되고 있다. 이러한 투명전극 재료로써 다양한 물질들(e.g. Sn-doped In2O3(ITO), Sb-doped SnO2, F-doped SnO2)이 개발되어 왔으며, 그 중에서도 ITO는 우수한 투과율 및 면저항 특성으로 인해 상업적으로 널리 활용되고 있다. 지금까지 고성능 ITO 투명전극의 제조를 위해 스퍼터링법, 화학기상증착법 및 진공증발증착법등 고온/고진공 공정을 통해 이루어져 왔다. 하지만 이러한 공정은 투명전극의 가격상승, 대면적화 제한, 유연기판 적용불가 등의 문제가 있어 응용분야에 적용이 현실적으로 어렵다. 따라서 다양한 연구자들이 이를 극복하기 위해 스핀코팅법, 딥코팅법 및 잉크젯프린팅법과 같은 용액공정을 이용하여 투명전극의 저온제조를 위해 노력하고 있지만 아직까지 그들의 특성은 미약한 수준이다. 본 연구에서는 복합나노잉크를 통해 저온 공정에서 우수한 특성을 나타내는 용액기반 투명전도성박막을 제조하였다. 투명전도성박막의 구조 및 형태적 특성을 X-선 회절법, X-선 광전자 분광법, 주사전자현미경 및 원자간력 현미경을 통해 규명하였고, 전기적 및 광학적 특성은 홀 효과 측정법과 자외-가시선 분광광도계을 통하여 분석하였다. 본 학회에서 위의 내용에 대하여 자세히 논의할 것이다. |
