| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1998년 가을 (10/23 ~ 10/24, 조선대학교) |
| 권호 | 4권 2호, p.3773 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 백금 박막의 반응성 에칭 특성 |
| 초록 | 강유전체 구조에서 전극으로 이용되는 백금 박막의 반응성 에칭은 reactive ion etching system에 Cl2/CO를 이용하여 etching 특성변화를 확인하였다. 플라즈마 하에서의휘발성 반응 메카니즘은 XPS를 통한 반응표면 분석을 실시하여 제안하였다. 반응성etching chemistry를 미세 패턴 형성에 적용하였을 때 etch anisotropy가 달성되었고 etchresidue가 생성되지 않았다. |
| 저자 | 김진홍, 우성일 |
| 소속 | 한국과학기술원 화학공학과 |
| 키워드 | Etching; Platinum; RIE; XPS |
| 원문파일 | 초록 보기 |
