| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (04/15 ~ 04/17, 호텔인터불고(대구)) |
| 권호 | 13권 1호 |
| 발표분야 | 정보전자소재 |
| 제목 | 진공 플라즈마 세정기술을 이용한 나노패턴 웨이퍼의 표면세정 |
| 초록 | 우리나라의 반도체와 디스플레이 산업은 세계시장을 선도하는 업종으로서 이들 제조공정 중에서 세정공정이 전 공정의 10~20%를 차지하고 있다. 세정공정에는 습식세정과 건식세정으로 나누어 사용되고있지만 대부분 습식세정을 사용하고 있는 실정이다. 이에 국제환경규제와 고집적화에 따른 회로의 미세화로 기존의 습식세정기술로의 효율적인 세정이 어려우므로 건식 세정기술이 점차 부각되어어지고 있다. 본 연구는 대표적인 건식세정 기술인 플라즈마 세정을 이용하여 세정평가를 하였다. |
| 저자 | 백지영1, 송재동1, 이명화1, 김상범1, 김경수1, 김성현2 |
| 소속 | 1한국생산기술(연), 2고려대 |
| 키워드 | vaccum plasma; dry cleaning; pattern wafer; Photoresist |
