| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2015년 봄 (04/29 ~ 05/01, BEXCO (부산)) |
| 권호 | 19권 1호 |
| 발표분야 | 콜로이드계면화학_포스터 |
| 제목 | 흄드실리카의 나노 분산졸 제조 및 분산안정화 연구 |
| 초록 | 실리카는 일반적으로 제지, 섬유, 화학, 도료, 화장품 등에 널리 사용되는 친환경 무기물이다. 이러한 실리카를 용매에 100nm 이하의 콜로이드 상으로 제조한 것을 실리카졸 또는 콜로이달 실리카라고 한다. 특히 Fumed Silica로 분산된 실리카졸은 반도체 공정에 사용하는 CMP 슬러리, 광학용 필름, 유무기 하이브리드 코팅제 제조 등 다양한 응용분야에 사용된다. 그러나 Fumed Silica는 5~10nm 입자들이 사슬상으로 뭉쳐있는 100nm 이상의 입자들로 분포되어 있다. 본 연구에서는 이 입자들을 나노분산화 시킬 수 있어서 다양한 응용분야에 기능성을 극대화시키기 위해 나노분산 안정화가 필요하다. 분산인자로서 밀링조건인 시간, 비드 크기 및 양, 밀링 디스크의 종류, pH, 밀링장비의 종류, 분산제 종류 등 여러 조건을 제어하여 비교 연구하였다. 제조된 실리카 분산졸은 BET, TEM, PSA, Zeta Potential 등으로 특성 평가하였다. |
| 저자 | 박민경1, 최진섭2, 이승호3, 김대성3 |
| 소속 | 1한국세라믹기술원 / 인하대, 2인하대, 3한국세라믹기술원 |
| 키워드 | Fumed Silica; 분산인자; 습식밀링; 나노분산졸 |
