| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교) |
| 권호 | 8권 2호, p.5218 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | CeO2계 CMP 나노 연마입자의 제조와 표면개질 |
| 초록 | 본 실험은 RF plasma를 이용하여 나노크기의 CeO2 입자표면에 SiO2 film을 코팅하여 균일한 SiO2-CeO2 나노복합체를 제조하는 새로운 기술에 대한 실험이다. CeO2 입자는 수열합성법에 의해 제조되었으며, Plasma에 의한 SiO2 film 제조는 HMDSO를 사용하여 입자에 코팅하였다. Plasma 합성에 있어 순수한 SiO2 film을 형성하기 위해 산소조성비, RF power, 반응가스 양 등을 달리 해 가며 실험을 하였다. |
| 저자 | 오명환, 이관영 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | SiO2-coated CeO2; plasma; HMDSO; Hydrothermal method |
| , | |
| 원문파일 | 초록 보기 |
