| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 가을 (11/10 ~ 11/11, 한양대학교) |
| 권호 | 11권 2호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | ZnO/glass 박막의 플라즈마 전처리 효과 |
| 초록 | Radio frequency(RF) 스퍼터를 사용하여 Glass 기판(CORNING 2948) 위에 zinc oxide(ZnO) 박막을 증착하였다. 성분 분석을 통하여 Zn와 O의 Atomic %가 1:1을 이루도록 O2의 투입량을 조절하였다. 기판의 표면을 플라즈마를 이용한 표면처리를 행하게 되면 그 위에 성장하는 박막의 결정성 및 품질의 향상이 있는 것으로 되어 있어 본 실험에서도 이에 대한 효과를 얻어 증착된 ZnO 박막의 기본적인 결정성의 향상 등 품질의 변화를 주고자 한다. 스퍼터 증착법으로 전처리 없이 glass 기판 위에 ZnO 박막을 증착한 것과 glass 기판의 표면을 플라즈마 전처리한 후에 ZnO 박막을 증착한 것을 비교하였다. Ar 및 O2의 유량비를 조절하면서 박막을 증착하였으며, 증착된 박막을 XRD, FESEM 및 EPMA 등의 분석을 통해 플라즈마 전처리의 효과를 분석하고자 한다. 또한 이들의 실험 조건과 병행하여 400℃, 500℃ 및 600℃의 열처리를 행한 박막에 대해서도 그 변화를 관찰하고자 한다. |
| 저자 | 정진우, 진정근, 이정철, 이동건, 최재홍, 성윤모, 변동진 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | ZnO; RF sputter; glass |
