| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2004년 가을 (10/29 ~ 10/30, 호서대학교(아산캠퍼스)) |
| 권호 |
10권 2호, p.2053 |
| 발표분야 |
재료 |
| 제목 |
상온저압 나노임프린트 공정기술을 이용한 대면적 나노패턴제작 |
| 초록 |
최근, 나노임프린트공정기술이 차세대 리소그래피 공정의 하나로 인식되면서 이기술을 이용한 나노패턴의 제작과 활용에 대해서 국내외 대학 및 연구소에서 많은 관심을 가지고 연구결과들을 발표하고 있다. 나노임프린트는 크게 보면, 열을 이용한 hot embossing기술과 UV를 이용한 UV-NIL로 나눌 수 있는데 전자의 경우 공정이 쉽고 장비가격이 저렴한 장점이있는 반면에 공정시간이 길거나 고압이 필요한 단점이 있다. 본 연구에서는 상온저압에서 대면적의 패터닝을 할 수 있는 UV-NIL 공정기술을 이용한 대면적의 패턴을 제작하였다. 고수율, 대면적 패턴제작을 위해서 EPS(Elemented Patterned Stamp)을 이용한 새로운 공정기술을 개발하였다. 각각의 나노 스템프들은 전자빔 식각공정을 통해서 제작되었고, UV-경화성 수지는 EPS 스템프에 분산(dispensing)방법에 의해서 도포되어졌다. 임프린트 공정중에 채널내의 공기와 잔류층들은 EPS의 구조적 특징에 의해서 패턴밖으로 내보내어지고, UV-수지는 패턴을 효과적으로 채움으로서 원하는 나노패턴을 효과적을 제작할 수 있었다. 현재 약 50nm급의 패턴공정이 이와 같은 방법으로 효과적으로 제작됨을 확인할 수 있었다. |
| 저자 |
최대근, 정준호, 이응숙, 심영석, 신영재, 손현기
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| 소속 |
한국기계(연) |
| 키워드 |
나노임프린트; 상온저압; 대면적
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| E-Mail |
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| 원문파일 |
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