| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2011년 가을 (10/06 ~ 10/07, 김대중 컨벤션센터) |
| 권호 | 36권 2호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료－나노카본 고분자 복합필름 |
| 제목 | 실리콘 함유 수분산 PUD/polyhedral oligomeric silsesquioxanes(POSS) 나노복합체의 제조 및 특성 분석 |
| 초록 | 수분산 폴리우레탄(PUD)은 물속에서도 안정하게 유지될 수 있는 자기유화형 고분자 수지로 친환경적이지만 일반 용제형 우레탄 수지에 비해 낮은 물성 가지는 단점이 있다. 이에 본 연구에서는 polydimethylsiloxane(PDMS)와 isophorone diisocyanate(IPDI), 2,2-bis(hydroxymethyl)propionic acid(DMPA), poly(tetramethyle ether)glycol(PTMG)를 이용하여 주 사슬에 실리콘이 함유된 PUD를 합성하였고, 또한 acetone 공정하에서 polyhedral oligomeric silsesquioxanes(POSS)를 첨가하여 우레탄의 hard segment 부분이 강화된 실리콘 함유 PUD/POSS 나노복합체를 제조하였다. 제조된 PUD의 특성 분석을 위해 FT-IR, 접촉각, DSC, DMA, UTM 등을 사용하였다. |
| 저자 | 노흔효1, 이종근1, 최용만2 |
| 소속 | 1금오공과대, 2수산고분자㈜ |
| 키워드 | 실리콘; PUD; polyhedral oligomeric silsesquioxane; nanocomposite; acetone |
