화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2022년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU))
권호 26권 1호
발표분야 포스터-환경·에너지
제목 반도체 제조공정 배출 미세먼지-질소산화물 동시 저감을 위한 오존 고속산화공정 최적화 연구
초록   반도체 제조공정에서는 산성가스, 알칼리가스, 유기성가스를 비롯한 여러 특수가스를 복합적으로 취급하기 때문에 복합대기오염물질 처리가 가능한 통합시스템이 지속적으로 요구되고 있으며, 이러한 복합 대기오염물질을 처리하는 과정에서 대기오염물질이 추가적으로 발생하는 문제점까지도 발생하고 있다.

  본 연구에서는 반도체 제조공정에서 발생하는 미세먼지와 질소산화물 동시처리를 위하여 오존산화, 습식중화 및 습식전기집진 기술들을 집적화한 10 CMM급 복합오염물질 제거시스템을 개발하였으며, NOx 제거효율 증대를 위한 공정변수 제어 및 최적화를 진행하였다. 특히, 전원공급장치를 포함한 습식전기집진장치 핵심부품 안정성 평가를 위해 30일 동안의 장기운전도 병행하였다. 오존산화 기반 DeNOx 공정에서 가장 중요한 운전변수인 O3/NO 비율 및 습식중화 공정 운전변수를 최적화하여 중화반응에 의한 제거효율 기여도를 확인하였다.
저자 홍기훈1, 황상연1, 엄성현1, 이승준2, 고은하2
소속 1고등기술(연), 2플라즈마텍
키워드 반도체 폐가스; 미세먼지-질소산화물 동시 저감; 오존 고속산화; 공정 최적화
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