| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2021년 가을 (11/03 ~ 11/05, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 |
25권 2호 |
| 발표분야 |
[나노] 소·부·장 지속성장을 위한 나노혁신기술 |
| 제목 |
나노·마이크로 구조체 제작 시스템 및 공정 기술 |
| 초록 |
바이오, 의료, 에너지, 환경, 디스플레이, 광학 등 다양한 분야에 활용되는 소자의 성능이 고도화되고 고집적화 됨에 따라 이를 제조하기 위한 장치 및 공정 기술에 대한 필요성도 꾸준히 증가하고 있다. 미세유체 칩, 고기능 광학 소자, 전기화학 센서 등 모든 소자가 수 nm급 형상 정밀도를 요구받는 것이 아니며, 각각의 기능에 따라 수백 nm 또는 수 um 수준의 분해능만으로도 충분히 효과적인 제조 기술의 적용이 가능하다. 따라서, 기존의 반도체 제조 공정에 주로 의존해 오던 나노·마이크로 스케일의 구조체 제작 방법 역시 각각의 응용 분야에 최적화된 형태로 진화해 가고 있다. 본 발표를 통해 미세한 구조체 제작을 위한 레이저 기반의 리소그래피 기술을 비롯하여, 이를 대량 생산하는 데에 적합한 나노임프린트 리소그래피 기술까지 광범위하게 진행되어 온 현재의 연구개발 결과를 소개하며, 각각의 방법에 대한 장단점 및 향후 전망에 대해 살펴보고자 한다. |
| 저자 |
임형준, 이재종, 최기봉, 김기홍, 권순근, 안준형, 최학종
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| 소속 |
한국기계(연) |
| 키워드 |
나노패턴; 구조체; 리소그래피; 레이저; 나노임프린트
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