| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2020년 가을 (10/14 ~ 10/16, e-컨퍼런스) |
| 권호 | 26권 1호, p.92 |
| 발표분야 | 공업화학 |
| 제목 | 인공지능 기반 CVD에서의 그래핀 성장 시뮬레이션 모델 개발 |
| 초록 | 본 연구에서는 CH4를 Prequersor로 하여 Cu substrate 위에 그래핀을 성장시키는 Chemical Vapor Deposition(CVD)을 진행하였다. 실험 조건(i.e. Temperature, Annealing time, Growth time, and Supply of H2)에 따라 그래핀의 성장 specifications(i.e. Size, Aspect ratio, Coverage, and Domain density)의 변화를 분석하기 위해, 인공지능 기반의 다양한 모델을 도입하였다. 먼저, Region-proposal Convolutional Neural Network(R-CNN)으로 Size 및 Aspect ratio를 빠르고 정확하게 측정하였다. 이 후, Artificial Neural Network(ANN)과 Support Vector Machine(SVM)을 이용하여 실험 변수들과 각 specification 사이의 상관관계를 모델링하였다. 최종적으로, Generative Adeversarial Network(GAN)과 pix2pix를 통해 ANN과 SVM이 보여주는 수치적인 결과를 SEM이미지 형태로 구현하여 CVD 내에서 그래핀의 성장을 시뮬레이션할 수 있었다. Acknowledgement: 본 연구는 2020년도 정부(산업통상자원부)의 재원으로 한국산업기술진흥원의 지원을 받아 수행된 연구임.(P0008475, 2020년 스마트디지털엔지니어링전문인력양성사업) |
| 저자 | 황규영, 황성원 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | 나노소재 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
