학회 | 한국재료학회 |
학술대회 | 2020년 가을 (11/18 ~ 11/20, 휘닉스 제주 섭지코지) |
권호 | 26권 1호 |
발표분야 | D. 구조 재료 분과 |
제목 | 고온 AlN heater의 microstructure 특성 기반 thermal simulation |
초록 | 질화알루미늄 (Aluminum Nitride, AlN) 히터(heater)는 CVD, Etcher, Photo 등 반도체 전공정 장비에서 사용되고 있다. 반도체 공정의 지속적이 선폭 미세화로 인해 박막 공정은 nm-수준으로 제어되고 있다. 이로 인한 공정온도 상승으로 500℃ 이상의 wafer 히터 사용이 증가되고 있다. 하지만 500℃ 이상의 고온에서 wafer의 온도 uniformity를 유지하는 것은 쉽지 않다. 따라서 500℃ 이상의 고온에서 안정된 AlN 히터의 성능과 내구성을 유지할 수 있는 연구가 지속적으로 필요하다. 본 연구에서는 AlN 히터의 미세구조(microstructure)에 기반하여 열적, 전기적 특성값을 도출하였다. 도출된 미세구조의 물성특성으로 적용하여 다양한 조합을 통해 AlN 히터의 온도변화를 Abaqus를 활용하여 시뮬레이션 하였다. 이를 통해 AlN 히터의 열적구조 안정화 설계안을 도출하였다. 본 연구는 2019년도 산업통상부의 재원으로 한국산업기술평가관리원(KEIT)의 지원을 받아 수행한 연구 과제입니다. (No. 20007155) |
저자 | 정재성, 안영기 |
소속 | 한국전자기술(연) |
키워드 | 질화알루미늄 (Aluminum Nitride); Heater (히터); 미세구조 (Microstructure); 열해석 (Thermal simulation) |