| 초록 |
본 연구에서는 Back bone에 Styrene을 포함한 신규 고분자를 일정 분자량을 기준으로 합성하고 이를 Negative Photoresist로 응용하여 Litho test를 진행하였다. Test 결과, ADR과 분자량에 따른 각 Photoresist의 해상도와 잔막율의 차이에 대해 고찰하였다. 고분자는 radical polymerization을 통하여 합성하였으며, Styrene/Methyl methacrylate/Methacrylic acid/Glycidyl methacrylate/N-Cyclohexylmaleimide의 polymer를 일정 분자량을 기준으로 합성하였다. 합성한 네 종의 binder에 대하여 GPC, H-NMR, FT-IR, DSC, TGA 분석을 진행하였다. 합성 된 신규 고분자는 Negative Photoresist의 main binder로 이용되었으며, Litho test에 사용된 네 개의 Negative Photoresist는 그 해상도와 잔막율의 차이를 추적함에 있어서 오로지 분자량과 ADR 값의 변화에만 의지하도록 하였다. Litho test 결과 동일 분자량일 때 ADR 값이 큰 Photoresist가 해상도 역시 높은 반면 잔막율은 낮은 값을 나타내었다. 또한 동일 ADR 값을 가질 때에는 분자량 값이 클수록 해상도는 떨어지고 잔막율은 높은 값을 나타낸다는 결과를 알 수 있었다. |
