화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2005년 봄 (04/14 ~ 04/15, 전경련회관)
권호 30권 1호, p.124
발표분야 복합재료
제목 미세 및 나노 광엠보싱 공정에 적합한 솔-젤 불화 나노 하이브리드 재료의 제조 및 특성
초록 광엠보싱 공정은, 기존의 광패터닝(Photo Lithography)을 대체하여 미세 및 나노 크기의 패턴을 형성시킬 수 있는 대표적인 차세대 패터닝 공정기술(Soft Lithography)이다. 현재 광엠보싱 공정에 적용되고 있는 재료는, 일반적인 광패터닝 공정에 쓰이는 광민감성 고분자 소재이지만 자외선 엠보싱 공정에 최적합한 재료는 그 숫자가 많지 않은 실정이다.
유-무기 나노 하이브리드 재료(Hybrimer)는, 유기물의 특성과 무기물의 특성을 동시에 구현할 수 있는 장점과 함께 수지 상태의 샘플에서 광엠보싱을 통해 고체 상태의 패턴을 쉽게 형성할 수 있는 특징을 지니고 있다. 이러한 하이브리드 재료(Hybrimer)중, 광엠보싱 공정에 적합한 재료로서 본 연구에서는 유기수식 올리고실록산(Organically Modified Oligo-siloxane) 합성에 의한 솔-젤 불화 하이브리드 재료(Fluorinated Methacryl-Hybrimer)를 제조하고 그 특성을 평가하였다.
본 연구에서는 제조된 솔-젤 불화 나노 하이브리드 재료(Fluorinated Methacryl-Hybrimer)의 조성 변화에 따른 미세구조 및 특성 변화를 평가하였다. 또한 제조된 고분자-실록산 불화 나노 하이브리드 재료(Fluorinated Methacryl-Hybrimer)는, 꽤 낮은 표면에너지를 지니고 있어 러버 몰드(PDMS mold)를 이용한 미세 및 나노 광엠보싱 공정에 매우 적합한 특성을 지니고 있으며, 우수한 열안정성과 광학적 특성을 가지고 있어 미세 및 나노 크기의 다양한 광학용, 디스플레이용 패턴을 구현할 수 있다.

Reference
[1] W.S. Kim, K.S Kim, Y.J. Eo, K.B. Yoon and B.S. Bae, "Synthesis of Fluorinated Hybrid Material for UV Embossing of a Large Core Optical Waveguide Structure" Journal of Materials Chemistry 15, pp465-469 (2005).
[2] W.S. Kim, J.H. Lee, S.Y. Shin, Y.C. Kim and B.S. Bae, "Fabrication of Ridge Waveguides by UV Embossing and Stamping of Sol-Gel Hybrid Materials", IEEE Photonics Technology Letter, 16[8], pp1888-1890 (2004).
저자 김우수, 배병수
소속 한국과학기술원 신소재공학과
키워드 솔-젤 유-무기 복합체; 미세 및 나노 광엠보싱; 광학 및 디스플레이 재료
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