| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1998년 봄 (04/24 ~ 04/25, KOEX) |
| 권호 | 4권 1호, p.1109 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 튜브형 가열로 반응기에서 초미세 SiO2 입자의 균일한 증착에 관한 이론적/실험적 분 석 |
| 초록 | 본 연구에서는 예열기 사용에 따른 간략화된 MCVD 공정에서의 초미세 입자 생성, 성 장 및 증착의 영향을 예열기 설정 온도, 가열로 설정 온도, SiCl4 초기 농도 및 전체 기체유량 등과 같은 공정 변수를 변화시켜 가며 분석하였다. 특히 증착 구간에 초미세 입자들의 균일한 증착을 목표로 하여 증착 구간의 온도를 단열, 가열, 냉각 등에 의해 조절하였으며 공정 변수 변화에 따른 초미세 입자들의 증착 현상도 고찰하였다. |
| 저자 | 김동주, 유수종, 김교선 |
| 소속 | 강원대하교 공과대 |
| 키워드 | 예열기; 증착; SiO2 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
