| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2019년 가을 (10/30 ~ 11/01, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 |
23권 2호 |
| 발표분야 |
(특별세션) 제13회 반도체공정진단 워크숍(반도체공정/소재) |
| 제목 |
화학증착소재의 실시간 측정 |
| 초록 |
첨단산업인 반도체, 디스플레이, 태양전지 등에서 공통적으로 박막성장 핵심기술이 포함되며, 박막에서 첨단 소형 디바이스들의 개발에는 차세대 박막의 개발을 위한 박막의 정밀한 분석이 필수적이다. 박막분석을 위해 기존 ex-situ 시험을 진행하는 경우에는 성장 박막의 이동하는 과정등에서 오염 및 시간 손실의 문제가 크므로 공정챔버내에서의 In-situ로 분석하여야 하나기술적 난점을 해결하여야 한다. 본 연구에서는 CVD 공정에서 In-situ Raman spectroscopy를 설치하여 공정 중 챔버내의 환경을 최대한 보존한 상태에서 박막의 상태 변화 없이 성분이나, 박막의 결정성 등을 분석을 하고자 하였다. 실험에서는 Low & High k물질의 박막의 성장과정을 In-situ분석과 성장된 박막에 대해 비교하여 성장된 박막의 평가를 진행하였고, in-situ 시스템을 이용한 결정성상 분석 오차, 농도분석오차와 박막재현성 평가등을 진행하였다. |
| 저자 |
허훈1, 유은성1, 전재성1, 윤주영2, 박춘근1
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| 소속 |
1한국생산기술(연), 2한국표준과학(연) |
| 키워드 |
반도체; 디스플레이; 화학증착; 실시간; 라만; 박막
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