| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 가을 (11/05 ~ 11/06, 포항공과대학교) |
| 권호 | 15권 2호 |
| 발표분야 | H. Advanced Coating Techniques(첨단 코팅 기술) |
| 제목 | The effects of oxygen plasma on the SiOxCy(-H) films polymerized by atmospheric pressure dielectric barrier discharge |
| 초록 | 유기실록산물질을 이용한 대기압 플라즈마 코팅에 의해 제조되는 실리콘산화막은 불순물로서 탄소와 수소 등을 다량 함유하고 있기 때문에 실란가스를 사용하여 제조하는 실리콘산화막에 비하여 전자 및 광학적 특성저하가 있다. 또한 산소 및 수분투과에 대한 배리어로서 사용에도 제한적이다. 고품질의 SiO2막을 진공챔버에서 hexamethyldisiloxane(HMDSO), tetraethoxysilane(TEOS) 와 같은 물질을 이용하여 합성한 연구가 많이 발표되었으나 장치가격이 고가이고 연속생산이 불가능한 문제가 있다. 또한 SiO2막은 치밀하고 경도는 높으나 기판의 가공이나 휨 등의 변형에 의해 쉽게 갈라지는 현상이 있어 산소 및 수분투과에 대한 배리어로 사용이 제한적인다. 본 연구에서는 산소를 함유한 대기압 유전체배리어방전을 이용하여 대기압에서 플라즈마 합성된 SiOxCy(-H)막을 표면처리 함으로써 표면층을 SiO2 유사막화 하고자 하였다. SiOxCy(-H)막은 hexamethylcyclotrisiloxane (HMCTSO)를 이용하여 상온상압에서 합성하였다. 플라즈마 파워 및 산소유량의 변화에 따른 표면변화를 분석하였다. 산소플라즈마 처리는 산소플라즈마 처리 후 표면의 변화는 접촉각측정을 통해 즉시 확인하였으며, atomic force microscopy 및 x-ray photoelectron spectroscopy를 이용하여 표면형상 및 표면의 화학결합 변화를 측정하하고 고찰하였다. |
| 저자 | 김기택, 김보람, 김윤기 |
| 소속 | 한밭대 |
| 키워드 | 대기압; 유전체배리어방전(DBD); 산소플라즈마; 폴리머합성; 실리콘산화막 |
