| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2015년 가을 (11/25 ~ 11/27, 부산 해운대그랜드호텔) |
| 권호 | 21권 2호 |
| 발표분야 | G. 나노/박막 재료 |
| 제목 | 대기압 유전체 배리어 방전을 이용한 나노분말 표면처리 |
| 초록 | 최근 촉매기술, 인쇄기술, 염색기술, 환경기술, 소재기술 등의 다양한 분야에서 나노입자를 이용한 기술들이 급속도로 발전되고 있다. 나노입자 기술의 핵심은 나노 입자를 제조하는 기술이지만 응용에 있어서 더욱 중요한 것은 보다 효과적으로 나노입자를 분산시키거나 다른 물질과의 강한 결합을 할 수 있도록 하는 것이다. 분산이나 결합은 나노입자의 표면성질에 의해 결정됨으로 나노입자의 표면성질을 변화시키는 연구에 대한 관심이 매우 높다. 표면처리 방법 중 화공약품용액을 사용하지 않는 청정방법 중 하나인 유전체배리어방전(DBD)은 표면세정 및 표면개질과 관련하여 디스플레이, 반도체, 전자부품 산업 등에서 사용되고 있는 기술로 주로 평판제품의 표면처리에 적용되어 성능이 입증된 기술이다. 본 연구에서는 이 환경친화적인 DBD 기술을 평면제품이 아닌 나노입자의 표면처리에 적용하여 나노입자의 표면특성을 변화시키고 그 물성에 미치는 공정변수의 영향을 고찰하였다. 미세입자 표면처리를 위한 대기압 DBD 전극 시스템을 구성하였으며 공정변수로서 전압, 가스조성, 처리시간 등이 표면 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 또한 처리된 미세입자의 분산성, 촉매성 등을 평가하였다. |
| 저자 | 김윤기, 강정아, 서원영 |
| 소속 | 한밭대 |
| 키워드 | 표면처리; 나노분말; 유전체배리어방전; 대기압 플라즈마 |
