| 초록 |
SiO2분말은 고무, 플라스틱 등의 산업군에서 제품의 물성강화용 필러로 사용되고 있다. SiO2의 공업적 생산은 수열 공침법에 의해 제조되고 생산 후 수분 제거를 위한 열처리를 통해 표면 소수성개질을 한다. 이때 개질 과정에서 부여 받은 표면 특성은 모제와 융합되는 필러의 사용량 및 물성강화특성을 결정하는 중요한 포인트로 작용한다. SiO2의 열처리 표면 개질 법은 대량의 원료를 단시간 내 처리할 수 있어 원료 생산법으로는 적합하나 원재료의 특성상 개질된 표면특성의 유지가 어려워 시간경과에 따라 개질 특성을 잃어버리는 단점이 있다. 본 연구는 기체 이온빔을 이용하여 열처리법의 단점을 보완한 새로운 비화학적 SiO2 표면 개질법에 관한 연구이다. 기체이온빔은 SiO2입자 표면 Si-OH작용기는 기체이온빔 조사에 의해 Si-OH 구조가 Si=O 구조로 변화되며 이러한 과정을 거친 SiO2 입자는 장시간 동안 대기중에 노출되어도 Si-OH결합으로 환원되지 않다. [본 연구는 과학기술정보통부 한국원자력연구원 양성자가속기연구센터 운영기금의 지원으로 수행하였음] |
