| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2016년 가을 (11/16 ~ 11/18, 경주 현대호텔) |
| 권호 | 22권 2호 |
| 발표분야 | F. 광기능/디스플레이 재료 분과 |
| 제목 | 대기압 레이저 화학기상증착법을 이용한 Co 박막 증착의 공정변수에 따른 특성 연구 |
| 초록 | 레이저 화학기상증착법(Laser Chemical Vapor Deposition)은 레이저를 반응 에너지원으로 사용하여 박막을 증착하는 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition)으로, 패터닝 및 에칭공정 없이 패턴된 박막을 증착할 수 있는 장점을 가지고 있다. 이러한 장점으로 레이저 화학기상증착법은 미세전자 가공분야에서 널리 사용되고 있다. 이와 함께 높은 수율을 얻기 위해 레이저 화학기상증착법은 진공이 아닌 대기 중에서 공정이 진행되는 추세이다. 본 연구에서는 대기압 레이저 화학기상증착법을 이용하여 패턴된 Co 금속 박막을 제작하고 그 특성을 분석하였다. 기판, 레이저 에너지, 스캔 속도 등의 공정 변수의 변화에 따른 Co 금속 박막의 비저항 변화를 확인하고, 대기압 레이저 화학기상증착법을 이용한 Co 박막 증착 공정의 최적화된 조건을 찾았다. 또한 공정 변수에 따른 Co 금속 박막의 비저항 및 최적화된 Co 박막에 대한 원인을 규명하기 위하여 표면분석, 성분 분석 등을 진행하였다. |
| 저자 | 이지원1, 정경훈1, 변인재2, 이재갑1 |
| 소속 | 1국민대, 2참엔지니어링 |
| 키워드 | <P>repair; direct writing; laser chemical vapor deposition; laser; cobalt</P> |
