| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2014년 봄 (04/30 ~ 05/02, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 | 18권 1호 |
| 발표분야 | 포스터-환경.에너지 |
| 제목 | Removal of organic compounds by the ZVAl/H2O2 system in the presence of chloride ion at neutral pH |
| 초록 | 알루미늄금속(zerovalent aluminum: ZVAl)은 산성 pH영역에서 용존산소(dissolved oxygen) 혹은 과산화수소(hydrogen peroxide)와 반응하여 수산화라디칼(•OH)과 같은 활성산화제(reactive oxygen species)을 발생시켜 유기오염물질을 쉽게 산화분해 할 수 있다. 이러한 영가알루미늄기반의 유사펜톤 반응은 알루미늄 표면에 형성되는 산화피막 (aluminium oxide film) 때문에 산화피막이 제거될 수 있는 산성 pH의 영역 (pH ＜3)에만 그 반응이 한정된다. 본 연구에서는 중성 pH 범위에서 작용이 가능한 유사펜톤 시스템의 개발을 위해 ZVAl/H2O2 system에 염화이온(chloride ion)을 첨가하였고 다양한 실험 조건에서 수질 오염물질의 제거효율을 비교하였다. 연구결과 고농도의 염화이온과 첨가된 ZVAl/H2O2 system은 산성 pH 범위는 물론이고, 중성 pH 범위까지 (pH ＜9) 유기오염물질의 산화분해 반응이 확장되었다. |
| 저자 | 이혜진, 이홍신, 서지원, 신민정, 이창하 |
| 소속 | 울산과학기술대 |
| 키워드 | zerovalent aluminum; hydrogen peroxide; oxidation; reactive oxygen species |
