| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2015년 봄 (04/29 ~ 05/01, BEXCO (부산)) |
| 권호 |
19권 1호 |
| 발표분야 |
촉매_포스터 |
| 제목 |
반도체 세정에 사용되는 NF3의 ZrO2 촉매 상에서의 가수분해 반응 |
| 초록 |
현재 전 세계적으로 반도체 / 디스플레이 제조공정에서 가장 많이 사용되는 불화온실가스들 중에는 NF3가 있으며, 이들의 수요는 매년 증가하고 있다. GWP가 17,000에 달하기 때문에 배출감축대상 최우선 물질 중 하나로 지정되었다. 이들은 대기로 배출되기 전 분해되어야 하며, 불화온실가스의 분해 방법으로는 열분해법, 연소분해법, 플라즈마 분해법, 촉매분해법 등이 있다. 본 연구에서는 ZrO2 촉매 상에서 NF3를 가수분해하여 제거하고자 하였다. γ-Al2O3의 경우 가수 분해 반응 후 AlF3로 상 전이가 발생하지만 ZrO2는 NF3와 직접 반응 하지 않고 촉매활성을 가지는 것으로 확인되었다. 또한 반응 온도와 공간속도를 변화시키며 분해효율이 가장 높게 나타나는 조건을 찾고자하였다. 촉매의 반응 전, 후 물성변화를 조사하기 위하여 XRD분석, BET 표면적 측정기 등이 사용되었다. |
| 저자 |
이진욱1, 성연백1, 이태훈1, 김민정1, 박창준1, 최원영1, 이태진1, 박노국1, 장원철2
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| 소속 |
1영남대, 2코캣 |
| 키워드 |
NF3; ZrO2; 가수분해
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| E-Mail |
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