| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2009년 가을 (10/08 ~ 10/09, 광주과학기술원 오룡관) |
| 권호 |
34권 2호 |
| 발표분야 |
고분자 나노 구조물의 합성, 분석 및 응용(국제심포지움) |
| 제목 |
광경화성 아크릴레이트 수지에 따른 임프린트 패턴형성에 관한 연구 |
| 초록 |
나노임프린트(Nanoimprint)는 기판 위에 수지를 스핀코팅 또는 디스펜싱 한 후, 나노구조물이 각인된 스탬프를 기판 표면에 눌러 나노구조물을 전사하는 방법으로 100nm급 이하의 나노구조물을 효과적으로 제작할 수 있는 기술이다. 이러한 UV-NIL기술에는 광반응성 아크릴레이트를 기본으로 하는 수지가 주로 사용되는데, 수지를 구성하는 성분들의 조성변화와 점도변화에 따라서 나노구조물 형성에 많은 영향을 미치게 된다. 본 실험에서는 광경화성 수지를 구성하는 아크릴레이트 모노머와 올리고머의 조성을 변화시켜 조성과 점도가 다른 수지를 제조하였고, 각 수지의 경화특성을 FT-IR, DSC를 이용하여 측정하였다. 또한, 제조된 광경화성 수지를 UV-NIL에 적용하여 SEM과 AFM을 이용하여 형성된 패턴을 관찰하여 패턴형성에 미치는 영향을 조사하였다. |
| 저자 |
장현석, 박선희, 송기국
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| 소속 |
경희대 |
| 키워드 |
나노임프린트(Nanoimprint); 아크릴레이트; 경화특성
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