| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2003년 봄 (04/25 ~ 04/26, 순천대학교) |
| 권호 | 9권 1호, p.1023 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | RF방전 전극 쉬스에 관한 연구 |
| 초록 | 기체 방전 플라즈마는 환경산업과 반도체산업(에칭, 스퍼터링, 감광저항제 제거) 등의 공정에 많이 사용되고 있다. 반도체 공정에 있어서는 이온의 비 등방성 에칭 과 에칭 속도를 결정하는데 있어서, 표면에 도달하는 이온의 에너지와 입사각은 중요하다. 본 연구는 플라즈마 쉬트의 해석적 모델에 대해서 고찰하고, RFCC(Radio-frequency Capacitively Coupled)플라즈마에 있어서 쉬트의 전류-전압특성, 이온특성 그리고 전압분포에 관하여 이루어졌다. |
| 저자 | 김학금 |
| 소속 | 서남대 |
| 키워드 | sukimhg-kiche |
| 원문파일 | 초록 보기 |
