| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2012년 가을 (10/11 ~ 10/12, 창원컨벤션센터) |
| 권호 |
37권 2호 |
| 발표분야 |
분자전자 부문위원회 |
| 제목 |
Highly fluorinated photoresist materials employing a photodimerization chemistry |
| 초록 |
최근 OLED가 가진 고유한 장점과 유기반도체 재료를 이용한 organic electronics의 상용화가 진행되면서, 유기 소자가 가지는 근원적 단점들을 보완할 수 있는 미세 patterning 기술에 대한 관심이 증가하고 있다. 통상 fine metal mask를 이용한 vacuum deposition을 통해 소자의 patterning이 가능하나, 미세소자 구현에 한계가 있어 이의 극복을 위한 photolithographic imaging의 가능성을 연구하게 되었다. 이를 위해 유기 반도체 재료와 상호작용이 적은 고불소계 포토레지스트, 그 중 photodimerization반응을 통해 용해도가 변화하는 새로운 감광재료를 합성하였고, 이를 hydrofluoroether를 이용하여 성공적으로 가공할 수 있었다. 본 발표에서는, 광산발생제를 필요로 하지 않아 유기재료의 특성에 대해 영향이 적은 고불소계 포토레지스트의 합성 및 이를 활용한 성공적인 patterning, 그리고 본 기술이 가진 가능성 등에 대해 제시하고자 한다. |
| 저자 |
김수현1, 김민철1, 정희영2, 이진균1, 이창희2, 정병준3, 황도훈4
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| 소속 |
1인하대, 2서울대, 3시립대, 4부산대 |
| 키워드 |
photodimerization; photoresist; hydroufluoroether; organic EL device; photopatterning
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| E-Mail |
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