| 초록 |
본 연구에서는 waveguide 소자에 이용할 수 있는 고분자 재료의 광학적 특성을 조사하고자 고분자의 굴절율을 조절하는 인자들에 관하여 조사하였다. 광화학 반응을 일으키는 발색단이 곁사슬로 공중합체를 형성한 고분자의 공중합체 조성 변화에 따른 굴절율 변화와 광 표백에 의하여 발생되어지는 굴절률의 변화를 서로 비교하여 고분자 굴절율 변화에 미치는 분자구조의 영향을 정량적으로 조사하였다. 공중합체의 조성 및 광화학 반응에 따른 굴절율 변화를 비교 연구하기 위하여 4,4'-dimethylaminonitrostilbene (DANS)와 MMA의 조성비율이 50:50, 35:65, 25:75, 10:90인 공중합체 고분자들의 광반응에 따라 변화하는 구조를 spectroscopy를 이용하여 조사하고, 광반응에 따른 굴절율(refractive index)의 변화를 Prism Coupling 방법으로 측정하였다. 광표백에 의하여 감소하는 굴절율의 변화는 고분자 내 발색단의 함량비율이 감소하여 나타나는 것 보다 훨씬 빠른 변화를 보여주었다. 이러한 굴절율 변화 실험 결과를 FTIR 실험 결과의 분자구조 변화에 따라 설명하였다. 공중합체의 광반응에 따른 두께의 변화를 조사하였고, 필름 두께에 따라 광표백이 되는 깊이에 대하여 조사하였다. |
