| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2011년 가을 (10/06 ~ 10/07, 김대중 컨벤션센터) |
| 권호 |
36권 2호 |
| 발표분야 |
기능성고분자－막분리용 고분자 |
| 제목 |
폴리(아릴-아크릴아미드)의Photo-Fries 전위반응에 의한형광 미세패턴 형성 |
| 초록 |
폴리 (아릴-아크릴 아마이드)에 자외선을 조사하면 Photo-fires 전위 반응에 의한 광가교가 일어나 일차 아민이 생성된다. 일차아민과 형광 염료인 Fluorescamine과 반응시켜 형광미세패턴을 형성하였다. 측쇄기에 N-phenylamide를 가진 N-Phenyl methacrylamide (PMA) 또는 N-(p-methoxy phenyl) methacrylamide (MPMA)와 methyl methacrylate (MMA)와 라디칼 공중합 하였다. Photo-fries 전위반응의 속도를 비교한 결과 homopolymer보다 copolymer의 반응속도가 큼을 알수 있었다. 이는 N-phenylamide 관능기의 양이 많을수록 생성된 라디칼이 Photo-fries 전위반응보다는 라디칼 짝지음 반응으로 인한 광가교가 일어나기 때문이다. 또한 MPMA를 함유한 copolymer의 경우 생성된 라디칼이 Photo-fries 전위반응이 일어나기 전에 수소추출반응이 일어나 소멸되어 Photo-fries 전위반응이 억제됨을 알수 있었다. |
| 저자 |
백선중, 채규호
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| 소속 |
전남대 |
| 키워드 |
Photo-fries; 형광 패턴
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| E-Mail |
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