| 초록 |
반도체 제조의 식각 및 증착 공정에서 사용 후 배출되는 Perfluoro-compounds (PFCs)를 고온 촉매 반응으로 분해하여 생성되는 HF 제거를 위해 상온 수용액상에서 액체-고체상 반응을 행하였다. 사용되어진 고체상 알루미늄 화합물은 Al 금속, Al(NO3)3·9H2O, AlCl3·6H2O, γ-Al2O3, AlOOH, Al(OH)3이었다. 실험변수는 HF 농도, 반응시간으로 한정하였다. 최종 생성물로 얻어지는 AlF3로의 반응성 관계를 규명하기 위해서 X-선 회절분석, 질소 흡착에 의한 비표면적, 기공부피, 기공크기의 변화, TGA/DTA, XPS, FT-Raman 분석을 행하였다. Al 금속을 전구체로 HF 용액상에서 반응 시 중간체로 Al2(OH)2.76F3.24·H2O이 관찰되었으며 반응 시간 또는 HF 용액의 농도 증가시 최종 생성물로 AlF3·3H2O가 관찰되었다. Al 금속을 제외한 다른 Al 화합물과 HF 반응 시에는 AlF3·3H2O의 최종 화합물 이외의 중간체는 검출되지 않았다. AlF3·3H2O는 공기 중, 200℃에서 소성시키고 비표면적의 Rhombohedral AlF3로 쉽게 탈수 반응이 진행되었다. 공기 중에서 AlF3의 Al2O3로의 전환 반응은 약 680℃부터 진행되었다. |
