| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2015년 가을 (11/04 ~ 11/06, 제주국제컨벤션센터(ICCJEJU)) |
| 권호 | 19권 2호 |
| 발표분야 | 나노_포스터 |
| 제목 | 터치 센서용 Cu 메탈 메쉬 패턴의 특성 |
| 초록 | 본 연구에서는 터치 센서에 적용이 가능한 Cu 메탈 메쉬 패턴을 스퍼터링 박막 제조 및 사진식각 공정으로 패터닝하였다. 특히, 광학적 특성의 향상을 위해 선폭을 수 미크론 급으로 낮추어하기 때문에 Cu 박막의 면저항을 최소화하기 위한 조건을 연구하였다. 그 결과, 스퍼터링 조건을 최적화하여 0.1 Ω/□ 이하의 양호한 면저항을 구현하는 Cu 박막을 제작할 수 있었다. 또한, 박막의 패터닝 조건 최적화를 통해 선폭 4 ㎛ 이하의 미세 Cu 패턴을 제어할 수 있었고, air 기준 광 투과율 89% 이상, 반사율 7% 이하의 양호한 광학적 특성을 가진 Cu 메탈 메쉬 패턴을 제작할 수 있었다. 감사의 글 본 연구는 2013년도 산업통상자원부의 재원으로 한국산업기술진흥원(KIAT)의 지원을 받아 수행한 연구 과제입니다 (No. A006100046). |
| 저자 | 노치형1, 한애진2, 곽민기2, 홍성제2 |
| 소속 | 1(주)네패스, 2전자부품(연) |
| 키워드 | 터치 센서; Cu; 메탈 메쉬; 면저항; 광투과율; 반사율 |
