| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (04/25 ~ 04/27, 제주 ICC) |
| 권호 | 18권 1호, p.1076 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 이중 불소화 처리를 이용한 저표면에너지 고분자막의 개질 |
| 초록 | 본 연구에서는 PET 필름에 함산소불소화 처리와 trialkoxyalkylsilane, 그리고 기상 불소화 처리를 하여 고분자 필름의 표면을 물리 및 화학적으로 개질하여 낮은 표면에너지를 가지는 고분자 필름을 제조하였다. 준비된 고분자 필름에 상온 0.5 bar에서 산소와 불소의 부분압 조건(F2 : O2=2:8)에 따라 함산소불소화 처리를 하였다. 다음으로 알코올과 암모니아수, Trimethoxy(propyl)silane의 혼합용액으로 담금 코팅 하였으며, 상온 0.5 bar에서 질소와 불소의 부분압 조건(F2 : N2=1:9)을 다르게 하여 실란중합체의 불소화 정도를 조절하였다. 제조된 필름의 표면 화학 특성을 분석하기 위해 XPS를 사용하였고 Diiodomethane 및 H2O에 대한 필름 표면의 접촉각 변화를 측정하고 이를 이용하여 표면에너지를 계산하였다. |
| 저자 | 김도영1, 배병철1, 박인준2, 이영석1 |
| 소속 | 1충남대, 2한국화학(연) |
| 키워드 | 함산소불소화; 불소화; 표면에너지; 트리알콕시알킬실란; PET 필름 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
