| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2019년 가을 (10/30 ~ 11/01, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 | 23권 2호 |
| 발표분야 | 포스터_디스플레이 |
| 제목 | New Polymeric Spin-On Carbon (SOC) Materials |
| 초록 | 최근 반도체 소자의 고집적화에 따라 보다 미세한 패턴을 구현하는데 노력하고 있다. 이러한 미세 패턴을 구현하기 위해 포토레지스트의 두께가 점점 얇아지면서 얇아진 패턴으로 피식각층을 식각할 수 없게 되는 문제점을 방지하기 위해 포토레지스트와 피식각층 사이에 식각 내성이 강한 유기막질인 하드마스크를 도입하여 사용하고 있다. 기존의 하드마스크는 화학증기증착법 (CVD)를 이용하여 만들어지지만 높은 유지비와 초기 투자비, 입자들이 뭉치는 particle 문제 등 몇가지 문제점을 가지고 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 최근에는 스핀코팅을 통해 유기물질을 쌓아서 하드마스크를 적용하고 있으며 박막의 표면이 고르고, polymer의 합성 및 기술에 따라 물성을 자유로이 조절할 수 있다는 장점도 가지고 있다 . 본 연구에서는 스핀코팅이 용이하도록 용해성을 향상시킨 새로운 형태의 고분자들의 합성에 대해 체계적으로 연구하였다. *This work was supported by Korea Institute for Advancement of Technology (KIAT) grant funded by the Korea Government (MOTIE)(P00008500, The Competency Development Program for Industry Specialist). |
| 저자 | 김성현, 조요한, 이지훈 |
| 소속 | 한국교통대 |
| 키워드 | Hard mask; SOC materials; Polymer; Spin-coating |
