| 초록 |
유기물의 산화처리 과정에서 중간생성물로 발생되는 Acetic acid는 습식 산화법에서 대표적인 난분해성 물질로 알려져 있으며, 강력한 수산화 라디칼(•OH)의 산화력을 이용하여 유기물을 분해시키는 Photo Catalytic Oxidation, Ozone Oxidation, Fenton Oxidation과 같은 기존의 고급산화공정(Advanced Oxidation Process)으로도 잘 분해가 되지 않는 것으로 알려져 있다. 최근 산업폐수의 청정처리 및 생물학적 처리공정의 전처리 공정으로 고급산화 공정의 적용이 증가함에 따라 기존의 고급산화 공정의 유기물 분해 능력을 향상시키기 위해 Photo-Fenton Oxidation(UV/H2O2/Fe) 또는 Photo-Chemical Ozonation(UV/O3/H2O2), Catalytic Ozonation(O3/Fe, Cu, Mn)공정과 같은 다양한 고급산화 공정의 조합 및 새로운 형태의 개선된 고급산화 공정들에 의한 유기물 분해연구가 시도되고 있다. 이에 본 연구에서는 다양한 조합의 개선된 고급산화 공정에 의한 Acetic acid 의 분해연구를 수행하고 기존 고급산화 공정과 개선된 고급산화 공정의 유기물 분해효율 및 고급산화공정에서의 직접산화와 라디칼에 의한 간접산화의 영향을 비교 검토 하였다. |
