화학공학소재연구정보센터
학회 한국재료학회
학술대회 2009년 가을 (11/05 ~ 11/06, 포항공과대학교)
권호 15권 2호
발표분야 C. Energy and the Environment(에너지 및 환경재료)
제목 DC 스퍼터링 방법으로 증착시킨 Al 박막의  열처리조건에 따른 전기적 특성
초록 이 연구에서는 DC 스퍼터링 방법으로 p-Si(100)기판 위에 Al 박막을 형성하고 열처리 조건에 따른 전기적 특성을 조사하였다.  
   Al 박막은 작업진공도 3 mTorr에서 기판과 Al 타켓 사이의 거리를 90 mm로 유지하고, DC power를 300W로 인가하면서 10분 동안 유지하여 0.1 ㎛의 두께로 증착하였다. Al 박막의 열처리는 수평형 전기로에서 질소가스를 1 SLM으로 공급하면서 열처리 온도와 시간을 각각 500~570℃와 10~120 분의 범위에서 실시하였다. 4-point probe를 이용하여 면저항을 측정하였고, Al의 농도분포와 확산깊이는 SIMS 분석으로 확인하였다.  
   Al 박막의 면저항은 열처리 온도가 500℃에서 570℃로 증가함에 따라  284 mΩ에서 282 mΩ으로 감소하였으며, 열처리 시간이 10 분에서 120분으로 증가함에 따라 289 mΩ에서 271 mΩ으로 감소하였다. 550℃의 온도에서 10분 동안 열처리된 시료에 대한 SIMS 분석 결과 확산된 Al의 표면농도는 1022 atoms/cc이었고, Al의 확산깊이는 1.5㎛ 이었다.
저자 김덕엽1, 이경한2, 변창섭1, 김선태2
소속 1한밭대, 2정보전자부품소재(연)
키워드 DC 스퍼터링; Al 박막; 실리콘; 확산; SIMS 분석
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