| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2012년 가을 (11/07 ~ 11/09, 라카이샌드파인 리조트) |
| 권호 | 18권 2호 |
| 발표분야 | F. 광기능/디스플레이 재료(Optical Funtional and Display Materials) |
| 제목 | DC 스퍼터링법으로 제작된 CrN/AlN 막의 구조적특성 Structural Properties of CrN/AlN films produced by DC sputtering |
| 초록 | 본 연구에서는 DC 스퍼터링법으로 면방향이 (111)인 Si기판위에 질소유량에 따라 증착된 AlN와 CrN 막을 제작하여 평가한 후 CrN 완충막을 가진 AlN를 제작하여 구조적 특성을 조사하였다. AlN와 CrN 막은 기판의 온도와 DC 출력을 각각 200 ℃와 300 W로 일정하게 유지 하였고, 질소의 유량을 0 - 100 %로 달리하여 30분 동안 증착하였다. 그리고 최적화된 질소유량에 의하여 CrN 완충막의 두께를 10 - 50 nm로 달리하여 증착된 AlN의 구조적 특성을 α-step, XRD, SEM, AFM을 이용하여 평가하였다. |
| 저자 | 오준영1, 신동휘2, 변창섭1, 김선태2 |
| 소속 | 1한밭대, 2정보전자부품소재(연) |
| 키워드 | AlN/CrN; DC sputter; CrN buffer |
