화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 1997년 가을 (10/24 ~ 10/25, 충남대학교)
권호 3권 2호, p.3449
발표분야 촉매/반응공학
제목 Cu/ZSM-5 제올라이트 위에서의 NO흡착/반응에 대한 UHV-TPD연구
초록 In UHV condition, the TPD peak corresponding to Cu+(NO) is observed at 330K (Tad = 175 K). NO adsorbs molecularly and is not dissociated at very low pressure (< 10-6 Torr). However, after the exposure of NO at the pressure above 0.1 Torr produces a new peak at 450K. This peak can be assigned to dinitrosyl species on Cu+ responsible to produce N2, N2O and NO2.
저자 황인철, 신메이, 김도희, 우성일
소속 한국과학기술원 화학공학과
키워드 Cu/ZSM-5; NO; UHV-TPD
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