학회 | 한국화학공학회 |
학술대회 | 1997년 가을 (10/24 ~ 10/25, 충남대학교) |
권호 | 3권 2호, p.3449 |
발표분야 | 촉매/반응공학 |
제목 | Cu/ZSM-5 제올라이트 위에서의 NO흡착/반응에 대한 UHV-TPD연구 |
초록 | In UHV condition, the TPD peak corresponding to Cu+(NO) is observed at 330K (Tad = 175 K). NO adsorbs molecularly and is not dissociated at very low pressure (< 10-6 Torr). However, after the exposure of NO at the pressure above 0.1 Torr produces a new peak at 450K. This peak can be assigned to dinitrosyl species on Cu+ responsible to produce N2, N2O and NO2. |
저자 | 황인철, 신메이, 김도희, 우성일 |
소속 | 한국과학기술원 화학공학과 |
키워드 | Cu/ZSM-5; NO; UHV-TPD |
원문파일 | 초록 보기 |