| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교) |
| 권호 | 8권 2호, p.5006 |
| 발표분야 | 이동현상 |
| 제목 | MOCVD 반응기내에서 유동의 전산유체역학모사 |
| 초록 | 본 연구에서는 MOCVD공정을 확립하기 위하여 실험 전 반응기 내의 이동현상 및 반응 속도에 대한 전산 모사로서 상용 소프트웨어인 FLUENT를 사용하여 적절한 반응기내에서의 유동현상을 해석하고 최적의 조건을 제시하여 공정변수를 줄이는 방법에 대해 연구하였고 이를 실험에 적용하고자 하였다. |
| 저자 | 최길호, 윤도영, 김재정 |
| 소속 | 광운대 |
| 키워드 | MOCVD 반응기; Vapor Deposition |
| 원문파일 | 초록 보기 |
